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Chinas Chipherstellung: Langdao Silex zeigt Prototyp einer EUV-Lichtquelle
Chipfertigung: China präsentiert eigenen EUV-Laser-Prototyp
KI-Überblick
Langdao Silex hat laut asiatischen Medienberichten einen Prototyp einer EUV-Lichtquelle für die Herstellung moderner Chips gezeigt. Der Hersteller nennt für FlintNano LPP-OXXO mehr als 15 Watt Lichtleistung; ASMLs Systeme erreichen laut dem Bericht 600 Watt. Ob der Prototyp für die Produktion taugt, ist fraglich. Standpersonal nannte laut Bericht drei bis fünf Jahre bis zur Serienreife.
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